Stabil bearbeiten über einen Fokusbereich im Millimeterbereich.
Ein sehr kleines Flat-Top bleibt über einen Fokusbereich von 4–6 mm maßhaltig und gleichmäßig. Damit hängt die Laserbearbeitung von Halbleitermaterialien nicht mehr an einem haarscharf eingestellten Fokus. Gemessen mit einem Industriepartner.
- Enge Fokustoleranzen: der Prozess sitzt auf einem schmalen Band von Z-Positionen
- Begrenzte Schärfentiefe bei konventionellen Shapern
- Hohe Empfindlichkeit gegen Defokus, Bauteilhöhe und thermische Drift
- Stabiles Flat-Top über einen Fokusbereich von 4–6 mm (≈50–75 % der nutzbaren Schärfentiefe)
- Größeres, tolerantes Prozessfenster: Z9 bis Z12 bestehen alle
- Ohne Umbau einsetzbar, mit minimaler Anpassung; robuste Bearbeitung für Halbleiteranwendungen

Weniger Aufwand beim Einrichten in der Produktion
3D Top-Hat
Ohne Umbau einsetzbar, mit minimaler Anpassung. Ein Prozessfenster von 4–6 mm heißt: dasselbe Rezept trägt über Bauteilhöhenschwankung und Nachfokussieren.
Konventionelles Top-Hat
Aufwendiges Abstimmen nötig, und nur ~2 mm Prozessfenster. Jeder Auftrag braucht ein exaktes Nachfokussieren, und die Ausbeute schwankt mit dem Defokus.
Was Sie davon haben
Weniger Einrichtaufwand, höhere Ausbeute und wiederholbare Bearbeitung über Schichten und Maschinen hinweg: eine robuste Grundlage für die Serienfertigung.
Vergleich aus Messungen mit dem Industriepartner. Die Werte sind konfigurationsabhängig und werden pro Setup bestätigt.
Produkt und weitere Anwendungsfälle
Präzisions-Mikrobearbeitung
Ebenere Böden und sauberere Wände als beim Gauß-Profil.
Anwendungsfall lesen →Gravieren auf geneigter Fläche
>3× größeres Prozessfenster, >2× bessere Oberfläche.
Anwendungsfall lesen →Ähnliche Prozessaufgabe?
Teilen Sie Laser und Anwendung mit uns, dann prüfen wir die Machbarkeit und starten Ihr erstes Projekt gemeinsam.
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